著錄信息
- 專(zhuān)利名稱(chēng)：一種制備太陽(yáng)能單晶背拋光電池片的方法
- 專(zhuān)利類(lèi)型：發(fā)明
- 申請(qǐng)?zhí)枺?/em>CN201410572702.7
- 公開(kāi)(公告)號(hào)：CN104505425B
- 申請(qǐng)日：20141024
- 公開(kāi)(公告)日：20170201
- 申請(qǐng)人：橫店集團(tuán)東磁股份有限公司
- 發(fā)明人：趙鋒,陳健生,徐君
- 申請(qǐng)人地址：322118 浙江省金華市東陽(yáng)市橫店工業(yè)區(qū)
- 申請(qǐng)人區(qū)域代碼：CN330783
- 專(zhuān)利權(quán)人：橫店集團(tuán)東磁股份有限公司
- 洛迦諾分類(lèi)：無(wú)
- IPC：H01L31/18,H01L31/0216
- 優(yōu)先權(quán)：無(wú)
- 專(zhuān)利代理機(jī)構(gòu)：杭州杭誠(chéng)專(zhuān)利事務(wù)所有限公司 33109
- 代理人：尉偉敏
- 審查員：丁光煒
- 國(guó)際申請(qǐng)：無(wú)
- 國(guó)際公開(kāi)(公告)：無(wú)
- 進(jìn)入國(guó)家日期：無(wú)
- 分案申請(qǐng)：無(wú)
關(guān)鍵詞
拋光,硅片,擴(kuò)散工藝,濕法刻蝕,單晶硅片表面,單晶硅片正面,硅片少子壽命,氫氧化鈉溶液,表面活性劑,方阻均勻性,超聲清洗,單晶硅片,電極印刷,溶液去除,有機(jī)溶液,增加設(shè)備,燒結(jié),氮化硅,電池片,堿溶液,拋光液,水乙醇,單晶,鼓泡,去除,死層,酸洗,沉積,制備,太陽(yáng)能,背面,改進(jìn),擴(kuò)散,改造
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