 評分8.9
											評分8.9
											 口碑指數(shù)622
											已點亮標(biāo)簽6個
											未點亮標(biāo)簽7個
											口碑指數(shù)622
											已點亮標(biāo)簽6個
											未點亮標(biāo)簽7個
											
										 1個行業(yè)品牌金鳳冠
												1個行業(yè)品牌金鳳冠
											 評分9
											評分9
											 口碑指數(shù)3670
											已點亮標(biāo)簽6個
											未點亮標(biāo)簽5個
											口碑指數(shù)3670
											已點亮標(biāo)簽6個
											未點亮標(biāo)簽5個
											
										 1個行業(yè)品牌金鳳冠
												1個行業(yè)品牌金鳳冠
											 評分9
											評分9
											 口碑指數(shù)3533
											已點亮標(biāo)簽6個
											未點亮標(biāo)簽5個
											口碑指數(shù)3533
											已點亮標(biāo)簽6個
											未點亮標(biāo)簽5個
											
										 評分9
											評分9
											 口碑指數(shù)518
											已點亮標(biāo)簽5個
											未點亮標(biāo)簽6個
											口碑指數(shù)518
											已點亮標(biāo)簽5個
											未點亮標(biāo)簽6個
											
										 國家企業(yè)技術(shù)中心
												國家企業(yè)技術(shù)中心
											 國家知識產(chǎn)權(quán)示范企業(yè)
												國家知識產(chǎn)權(quán)示范企業(yè)
											 4個行業(yè)品牌金鳳冠
												4個行業(yè)品牌金鳳冠
											 評分9
											評分9
											 口碑指數(shù)670
											已點亮標(biāo)簽9個
											未點亮標(biāo)簽8個
											口碑指數(shù)670
											已點亮標(biāo)簽9個
											未點亮標(biāo)簽8個
											
										
一、光刻機(jī)是干什么用的
光刻機(jī)是用來制造芯片的。光刻機(jī)又被稱為掩膜對準(zhǔn)曝光機(jī),在芯片生產(chǎn)中用于光刻工藝,而光刻工藝又是生產(chǎn)流程中最關(guān)鍵的一步,所以光刻機(jī)又是芯片生產(chǎn)中不可缺少的設(shè)備。
光刻機(jī)決定了芯片的精密尺寸,設(shè)計師設(shè)計好芯片線路,再通過光刻機(jī)將線路刻在芯片上,其尺度通常在微米級以上。
光刻機(jī)是芯片生產(chǎn)中最昂貴也是技術(shù)難度最大的設(shè)備,因為其決定了一塊芯片的整體框架與功能。
其實生產(chǎn)高精度芯片并不難,只是生產(chǎn)速度太慢,而光刻機(jī)能快速生產(chǎn)高精度的芯片,所以很重要。
二、光刻機(jī)的工作原理
利用光刻機(jī)發(fā)出的光通過具有圖形的光罩對涂有光刻膠的薄片曝光,光刻膠見光后會發(fā)生性質(zhì)變化,從而使光罩上得圖形復(fù)印到薄片上,從而使薄片具有電子線路圖的作用。這就是光刻的作用,類似照相機(jī)照相。照相機(jī)拍攝的照片是印在底片上,而光刻刻的不是照片,而是電路圖和其他電子元件。
簡單點來說,光刻機(jī)就是放大的單反,光刻機(jī)就是將光罩上的設(shè)計好集成電路圖形通過光線的曝光印到光感材料上,形成圖形。
三、光刻機(jī)的性能指標(biāo)
光刻機(jī)的主要性能指標(biāo)有:支持基片的尺寸范圍,分辨率、對準(zhǔn)精度、曝光方式、光源波長、光強均勻性、生產(chǎn)效率等。
分辨率是對光刻工藝加工可以達(dá)到的最細(xì)線條精度的一種描述方式。光刻的分辨率受受光源衍射的限制,所以與光源、光刻系統(tǒng)、光刻膠和工藝等各方面的限制。
對準(zhǔn)精度是在多層曝光時層間圖案的定位精度。
曝光方式分為接觸接近式、投影式和直寫式。
曝光光源波長分為紫外、深紫外和極紫外區(qū)域,光源有汞燈,準(zhǔn)分子激光器等。
四、光刻機(jī)制造需要哪些技術(shù)
光刻機(jī)的制造體系非常復(fù)雜,有兩點至關(guān)重要,即精密零部件和組裝技術(shù)。
1、精密零部件
一臺光刻機(jī)的制造需要數(shù)萬個精密零部件。通常來說,一臺光刻機(jī)的制造需要大約八萬個精密零件,而目前世界上最為先進(jìn)的極紫外EUV光刻機(jī)所需要的制造零件更是高達(dá)十萬余個。
一套完整的光刻機(jī)包括多個組成系統(tǒng),主要包括曝光系統(tǒng)、自動對準(zhǔn)系統(tǒng)、整機(jī)軟件系統(tǒng)等。其中,曝光系統(tǒng)更是包含了照明系統(tǒng)和投影物鏡。
在組成光科技的所有核心精密零件中,光學(xué)鏡頭、光學(xué)光源、雙工作臺又可以說是核心中的核心。
擁有高數(shù)值孔徑的光學(xué)鏡頭是決定光刻機(jī)的分辨率和閾值誤差能力。而分辨率和套值誤差能力對于一臺品牌光刻機(jī)具有至關(guān)重要的重要性。而世界上最為先進(jìn)的EUV極紫外光刻機(jī)唯一可以使用的鏡頭就是由蔡司公司生產(chǎn)的鏡頭。
光刻機(jī)的光學(xué)光源所包含的光源波長是決定光刻機(jī)工業(yè)能力的重要部分。需要特別注意的是,光刻機(jī)所需要的光源,必須具備體積小、功率高以及穩(wěn)定的幾個特點。
比如說極紫外EUV光刻機(jī)所使用的光源波長是僅僅只有13.5納米的極紫外光,其所使用的光學(xué)系統(tǒng)極為復(fù)雜。
光刻機(jī)中所需要的工作臺系能夠影響光刻機(jī)運行過程中的精度和產(chǎn)效,含有的綜合技術(shù)難度非常高。因為這種工作臺中具有承載硅片來能夠完成光刻機(jī)運行過程中的一系列超精密的運動系統(tǒng),其中包括上下片、對準(zhǔn)、景圓面型測量、曝光等等。
2、組裝技術(shù)
一臺光刻機(jī)不僅需要精密的零件,這些零件的組裝技術(shù)也至關(guān)重要。
當(dāng)所有零件都準(zhǔn)備就緒之后,接下來的組裝過程將直接影響一個光刻機(jī)的運行效能?,F(xiàn)在光刻機(jī)主要生產(chǎn)商荷蘭ASML公司(中文譯名:阿斯麥爾)的生產(chǎn)過程從本質(zhì)上來說更像是一個零件組裝公司,因為ASML公司生產(chǎn)光刻機(jī)所需要的將近90%的部件是從世界各地采購,其在世界上擁有超過五千家供應(yīng)商。
換句話說,ASML公司之所以能夠在光刻機(jī)制造技術(shù)上打敗尼康以及佳能等其他光刻機(jī)生產(chǎn)對手,從而在全球光刻機(jī)制造和銷售市場上占據(jù)領(lǐng)先地位,一個重要原因就是強大的組裝技術(shù)。
一家強大的光刻機(jī)組裝企業(yè)需要具有各種嫻熟的技術(shù)工人和各種組裝方面的知識產(chǎn)權(quán),從而能夠清楚明白各種精密元件如何組裝,進(jìn)而通過他們嫻熟的操作和系統(tǒng)的知識來快速和精確的制造一臺光刻機(jī)。
我國目前在光刻機(jī)的技術(shù)方面,經(jīng)過近二十年的關(guān)鍵技術(shù)攻克,已經(jīng)取得長足發(fā)展。
從光刻機(jī)雙工作臺來說,中國華卓精科與清華團(tuán)隊生產(chǎn)聯(lián)合研制的雙工作臺已經(jīng)打破ASML的技術(shù)壟斷,至于光刻機(jī)的同步光源設(shè)備和光學(xué)鏡頭的技術(shù)也在哈工大等全國知名科研機(jī)構(gòu)的潛心研究中獲得了迅猛發(fā)展。
可以說,目前我國人才、資源、資金等各個方面都已具備,未來我們擁有屬于自己的光刻機(jī)只是時間問題,未來前景可期!